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光催化废气处理设备的综合性能

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光催化废气处理设备的综合性能

发布日期:2019-10-14 作者: 点击:

光催化废气处理设备的光催化是常温深度反应技术。光催化氧化可在室温下将水、空气和土壤中有机污染物完全氧化成无害的产物,而传统的高温焚烧技术则需要在极高的温度下才可将污染物摧毁,即使用常规的催化、氧化方法亦需要几百度的高温。

光催化废气处理设备

从理论上讲,只要半导体吸收的光能不小于其带隙能,就足以激发产生电子和空穴,该半导体就有可能用作光催化剂。常见的单一化合物光催化剂多为金属氧化物或硫化物,如 Ti0、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。这些催化剂各自对特定反应有突出优点,具体研究中可根据需要选用,如CdS半导体带隙能较小,跟太阳光谱中的近紫外光段有较好的匹配性能,可以很好地利用自然光能,但它容易发生光腐蚀,使用寿命有限。相对而言,Ti02的综合性能较好,是广泛使用和研究的单一化合物光催化剂。

光催化废气处理设备不需要高成本的化学药剂,运行稳定,耐腐蚀,耐负荷冲击能力大;针对特定有害气体成份驯化适当的微生物,提高单位容积的负荷率;填料采用有机无机混合填料,比表面积大,孔隙率高,并可为微生物提供营养,可支撑大量不同种群微生物群。


本文网址:http://www.xstzskj.com/news/623.html

关键词:废气处理,光催化废气处理,光催化废气处理设备

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